MITSUI PELLICLE™은 반도체 포토리소그래피 공정에서 각 노광파장에 대한 내광성을 보유한 박막재료를 이용하여 보다 높은 투과율을 구현할수 있도록 설계한 포토마스크용 방진 커버로써

포토마스크를 오염으로부터 보호하고 깨끗하게 유지하여 반도체의 생산성 향상에 기여합니다. 

MITSUI PELLICLE™은 경험과 기술에 기반한 서비스로 차세대 포토리소그래피(photolithography)기술요구에 계속해서 대응해 나갈 것입니다.