미쓰이 펠리클은 포토리소그래피에서의 각 노광 파장에 대해 내광성이 있는 막 재료를 선택하여 높은 투과율을 얻을 수 있도록 막 두께 설계한 포토마스크용 방진 커버입니다.

포토마스크를 깨끗하게 유지하여 반도체 생산성 향상에 기여합니다.또한, 미츠이 펠리클은 경험과 기술을 바탕으로 한 서비스로 차세대 포토리소그래피 기술에 대응해 나갈 것입니다.