제품소개
MITSUI PELLICLE™
주요 용도 : 방진용 초박막 부재(LSI 제조 공정)
용도 분류
특성 분류
세부 자료 : 일본어 / English
기본정보
미쓰이 펠리클은 포토리소그래피에서의 각 노광 파장에 대해 내광성이 있는 막 재료를 선택하여 높은 투과율을 얻을 수 있도록 막 두께 설계한 포토마스크용 방진 커버입니다.
포토마스크를 깨끗하게 유지하여 반도체 생산성 향상에 기여합니다.또한, 미츠이 펠리클은 경험과 기술을 바탕으로 한 서비스로 차세대 포토리소그래피 기술에 대응해 나갈 것입니다.
특성
제품군
KrF 엑시머용 펠리클
ArF 엑시머용 펠리클
주요 메이커제 스테퍼에 대응
Nikon Canon ASML
환경에 대한 배려
제품 케이스 회수 재활용 실시
제품 카탈로그
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